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核徑跡防偽標簽

核徑跡防偽標簽介紹:
根據用戶要求的圖案通過成像技術采用原子能核反應堆輻照,在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔,微孔密度每平方厘米40-200萬個,微孔在平面上按統計規律分布,微孔斜度30-50度,孔道具有良好的透氣、透水性能。通過特殊工藝將薄膜與基材復合,再經過印刷而制成客戶要求的防偽標識
 
核徑跡防偽標簽特點:
1、核徑跡膜的生產必須使用原子核反應堆等國家專控大型核設施,國內只有極少數幾個在國家控制下的核研究單位擁有這樣的設備,是任何個人和團體不可能擁有的。目前國內唯有清華大學核能技術設計研究院的核反應堆具有生產核徑跡膜的能力。高度壟斷決定一般企業不可生產性。核徑跡防偽生產是占有獨性的 。核徑跡防偽標識的生產,還需要核物理、化學、電子、機械、光學等多學科的共同參與才能完成。        
 
2、核徑跡防偽標識圖案是由每平方厘米幾十萬到幾百萬個微米級微孔組成,具有“微觀設密宏觀顯示”的特點,使不可見的幾百萬個像素集合“放大”成為可見的宏觀圖案。微孔密度、微孔斜度、孔徑及分布規律,形成了嚴格的密碼信號,是仿造者根本無法逾越的障礙。核徑跡防偽標識其特有的微孔分布規律,圓柱形微孔孔道具有的散射角,及其分布規律,使得防偽標識在顯微鏡下可以清楚地識別出是否為核反應堆加工,實現了專家識別和大眾識別相結合的防偽目的。防偽圖案是不可仿造的 。  
 
3、核徑跡防偽標簽產品安全評價報告,清華大學核能技術設計研究院生產的核徑跡防偽膜經各級權威部門測試,符合國家“GB4792-84”放射衛生防護標準,放射水平為本底膜水平。可以作為食品、藥品等各類產品的包裝。上較廣,隱形文字、圖案多用于防偽技術。


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